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Mesure de front d'onde WaveMAster Mesure de front d'onde WaveMAster

Les instruments WaveMaster® mesurent en temps réel (16 Hz) le front d'onde d'optiques sphériques ou asphériques grâce à un analyseur de type Shack-Hartmann. L'instrument dispose d'une résolution spatiale élevée (matrice de microlentilles jusqu'à 150 x 150), peut travailler en configuration infini-foyer ou objet à distance fini et inclut un logiciel de haut niveau proposant différents modes de mesures et d'affichage des résultats ainsi que des fonctions d'analyse telles que le calcul des coefficients de Zernike en temps réel et l'affichage 3D du fit, le calcul de la PSF, de la FTM et du Strehl ratio.

Le front d'onde est mesuré avec une précision absolue de λ/20 avec une répétabilité meilleure que  λ/200. La dynamique de mesure du tilt est de 1500 λ et la dynamique de mesure du focus de 500 λ.

La gamme se décline en trois instruments répondants à différents besoins:

Le WaveMaster® RI, le WaveMaster® LAB et le WaveMaster® PRO Wafer.

 

 

WaveMaster® RI

 

Cet instrument est optimisé pour une utilisation simple et rapide dans un environnement de production ou de R&D.

Les mesures obtenues peuvent être comparées en temps réel à un front d'onde de référence ce qui permet un contrôle de qualité en ligne rapide.

La configuration utilisée focalise une source ponctuelle dans le plan focal de l'échantillon à tester. Un système utilisant un télescope vient ensuite imager le front d'onde transmis au niveau de la pupille de sortie sur l'analyseur de front d'onde.

Une compensation des erreurs d'alignement et un autofocus sont également implémentés pour faciliter la mesure.

La facilité d'utilisation du logiciel et de modification de mécanique de la configuration permet de s'adapter très facilement à la mesure de différentes optiques.

 

 

WaveMaster® LAB

 

Cette version de l'instrument permet la mesure de front d'onde dans la configuration choisie par l'utilisateur. Les échantillons peuvent être ainsi testés en infini-foyer aussi bien qu'à distance finie, la source peut être collimatée ou ponctuelle, le chemin optique direct ou inversé et le télescope imageur modifié pour pouvoir bénéficier de l'utilisation optimale de la dynamique du capteur.

WaveMaster® LAB donne accès à une flexibilité totale telle que nécessaire en utilisation de recherche et développement mais une fois mis en place atteint des performances de précision et de fiabilité à la hauteur d'un instrument de production.

 

 

WaveMaster® PRO Wafer

 

Cet instrument est né pour répondre au besoin des tests d'une nouvelle génération d'objectifs produits en masse sur des supports wafer c'est à dire une superposition de disques de verre optique. Des milliers de lentilles de petites tailles sont imprimées sur un unique empilement et doivent être testées individuellement avec une précision élevée tout en conservant une rapidité de test sans égal.

Dans cette version du WaveMaster® l'automatisation de la mesure et des alignements préalables est poussée à son maximum permettant la mesure en série du wafer dans son intégralité en moins de 3 secondes par lentille et en triant automatiquement les lentilles bonnes et mauvaises selon le critère choisi par l'utilisateur.

 


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